Fujitsu Limited und Advantest Corporation wollen ein Joint Venture gründen, das sich mit der Herstellung von Halbleiter-Prototypen mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithografie (eine Technologie, in der die Schaltungsstrukturen für Halbleitersysteme mittels eines Elektronenstrahls, der durch die Beschleunigung und Fokussierung von Elektronen entsteht, direkt auf einen Wafer übertragen werden) befasst, einer Technologie, die 65 nm und 45 nm Halbleiterprozesstechnologien mit Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombiniert. Gegenwärtig werden die formalen Vertragsbedingungen geklärt, das Joint Venture soll noch in diesem Jahr gegründet werden, um die Halbleiterprozesstechnologie von Fujitsu mit den Elektronenstrahl-Belichtungssystemen von Advantest zu kombinieren und eine Elektronenstrahl-Lithografie für 65-nm- und 45-nm-Prozesstechnologien zu entwickeln. So will das Joint Venture ab dem Geschäftsjahr 2007 seinen Kunden Prototypendienstleistungen für den 65-nm-Prozess als neue Entwicklungsumgebung anbieten und die Umgebung in der Zukunft auch in 45-nm-Prozesstechnologien anpassen.
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