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Lösungen zur Plasmareinigung

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Lösungen zur Plasmareinigung

Lösungen zur Plasmareinigung
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Macrotron Scientific Engineering (MSE) bietet jetzt Lösungen zur Plasmareinigung der SCI Plasma aus Singapur an, und vertreibt deren Produkte in der europäischen Halbleiter- und Automobilbranche. Die Produktpalette beinhaltet ein vollständiges Sortiment an Plasmasystemen für Reinigungs-, Aktivierungs-, Oxidentfernungs- und Ätzanwendungen. Auch werden eine Reihe von Anlagen hergestellt, die die Anforderungen an die Oberflächenbehandlung mit Kammern in der Größe von einem Liter bis zwölf Kubikmeter abdecken. Mit dem Quadrio 1 präsentierte nun das Unternehmen ein kompaktes Plasmareinigungssystem, das für den Inlinebetrieb geeignet ist. Plasma ist der vierte Aggregatzustand, in der Praxis ein ionisiertes Gas, das in Industrieanlagen durch die Anregung eines Niederdruckgases mit einem RF-Signal zwischen zwei Elektroden in einer Vakuumkammer hergestellt werden kann. Radiofrequenzen variieren von 40 kHz bis zu etlichen GHz. So soll die Anwendung der Plasmareinigung die Molekülschichten organischer Kontamination von verschiedenen Trägermaterialien entfernen, die Plasmaaktivierung ist deren ähnlich, und wird in der Haftvermittlung vor dem Molding oder einer einfachen Oberflächenvorbereitung vor der Farbbeschichtung, der Markierung oder dem Siebdruckverfahren angewendet. Bei der Plasmadesoxidation werden Oxide entfernt, die das nachfolgende Drahtbondverfahren beeinflussen könnten. Beim Plasmaätzverfahren wird durch die Verwendung von Ätzgasen in Plasmasystemen das Ätzen mehrerer Materialien von verschiedenen Substraten ermöglicht.

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