Olympus hat die modulare Mikroskop-Reihe BX2M für das Untersuchen von Halbleiter-Wafern, Magnetköpfen, LCDs und ähnlichen Objekten vorgestellt. Das BX51M liefert nach Herstellerangaben in der Standardkonfiguration mit unendlich korrigierter UIS-Optik für Hell-/Dunkel-Feld, DIC nach Nomarski und Polarisation scharfe Bilder. Eine Reihe von IR-Objektiven von 5 bis l00-fach bilden zusammen mit Filtern, Analysatorschiebern und einem binokularen Fototu-bus für Infrarotlicht ein komplettes NIR-System. Ein Sortiment von auf Schiebern montierten Prismensets für differentiellen lnterferenzkontrast nach Nomarski ermöglicht ein Optimieren dieses Verfahrens für das zu untersuchende Objekt. Für das Mikroskopieren unpräparierter Proben sind Objektive mit Arbeitsabständen von 21 mm bei 20-facher und 15 mm bei 50-facher Vergrößerung erhältlich. Die zentrierbaren Objektivrevolver ermöglichen den Wechsel von geringer auf starke Vergrößerung ohne Verschieben der Bildmitte. Das automatisierte BX61 ermöglicht das Steuern von programmierten Abläufen über ein Tastenfeld, einen PC oder einen Palmtop. Sowohl der Objektivrevolver als auch die Kondensoren, die Autofokuseinrichtung und die Filterräder können motorisch betrieben werden. Funktionen wie das Einstellen des Strahlengangs für ein bestimm-tes Mikroskopieverfahren, der Wechsel der Objektivvergrö-ßerung und das Einschwenken optischer Elemente lassen sich als Makros programmieren, um spezifische Mikroskopiebedingungen reproduzieren zu können.
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