365-nm-Lithografie erweitern

Optik für Waferstepper

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Starlith von Carl Zeiss ist das Kernstück der Waferstepper der niederländischen Firma ASM-L, die zur Herstellung hochintegrierter Mikrochips eingesetzt werden. Das optische System ermöglicht eine Strukturauflösung von 0,28 µm und damit die Erzeugung von Strukturen unterhalb der Lichtwellenlänge. Beleuchtungs- und Projektionsoptik arbeiten mit einer einstellbaren numerischen Apertur von 0,48 bis 0,65 unter Einhaltung eines doppeltelezentrischen Arbeitsganges. Mit dem System werden die Grenzen der heute gebräuchlichen 365-nm-Lithographie nochmals erweitert.EPP 159

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