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Reinigungslösung mit niedrigem pH-Wert

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Reinigungslösung mit niedrigem pH-Wert

Reinigungslösung mit niedrigem pH-Wert
Kyzen Corporation, Hersteller von umweltverträglichen Hochleistungsreinigungsprodukten für die Elektronik- und Hightech-Fertigungsindustrie, stellte die Reinigerformulierung Aquanox A4651US zur SMT 2008 in Nürnberg vor. Es handelt sich bei der Formulierung um eine saure Reinigungslösung mit niedrigem pH-Wert und speziell für die Anwendung in Ultraschall-Bädern. Die einfach und unkompliziert anwendbare Lösung sorgt für ausgezeichnete Reinigungsergebnisse, ohne dass Additive aus separaten Behältern dazu dosiert werden müssen. Die damit gereinigten Lötstellen weisen glänzende Oberflächen auf, und es werden gleichmäßige Reinigungs-ergebnisse

bei geringer Überwachung des Lösungsbads erzielt. Die Lösung greift viele Metalle, darunter Aluminium und Kupfer, nicht an. Sie ist kompatibel mit allen üblichen Materialien, die in der Elektronikfertigung sowie den Reinigungsprozessen verwendet werden. Zudem handelt es bei diesem Reiniger um eine biologisch abbaubare, wässrige Lösung, die keinerlei Fluorkohlenwasserstoffe aufweist und völlig frei von gefährlichen Stoffen ist. Im Anwendungslabor des Unternehmens wurde das Produkt evaluiert und die Entfernung von etwa 300 Lötmaterialien der weltweit führenden Hersteller garantiert. Der Reiniger ist in Gebinden von 1, 5 sowie 55 Gallonen Inhalt verfügbar.
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