Schnelle bildbasierte Ausrichtung von Wafern

Die Minimierung des Engineerings von Automatisierungslösungen sowohl bezüglich der Mechanik als auch der Softwareprogrammierung liefert entscheidende Vorteile in der zügigeren Gestaltung effektiver Fertigungslösungen und in der Kostenreduzierung. Der neue Wafer Reader In-Sight 1820 der Vision System Produktfamilie von Cognex erschließt mit seinen Fähigkeiten bislang ungenützte Rationalisierungspotentiale. Er nutzt die zuverlässigen geometrieorientierten Bildverarbeitungsalgorithmen der firmeneigenen PatMax Technologie für die hochgenaue Positionsbestimmung und Ausrichtung der Wafer. Die speziell für die Wafer-Industrie entwickelte und optimierte Ausrichtungstechnologie NotchMax ermöglicht die sehr schnelle und äußerst präzise Bestimmung von Position und Ausrichtung. Gegenüber den klassischen mechanischen Ausrichtsystemen arbeitet diese kontaktlose Arbeitsweise deutlich schneller und ermöglicht eine wesentlich höhere Flexibilität in den Fertigungslinien. Bislang erforderliche mechanisch bedingte Rüstzeiten können dadurch entfallen. Die Ausrichtung der Wafer erfolgt mit einer Zentriergenauigkeit von ± 15 µm und einer Ausrichtgenauigkeit von ± 0,05 Grad. Innerhalb des Prozesses können dadurch Zwischenschritte entfallen und der Durchsatz gesteigert werden. Das Wafer-Handling wird einfacher und sicherer, weil Probleme der mechanischen Beschädigung umgangen werden. Die Hersteller von Anlagen für die Wafer- und Elektronikindustrie erhalten damit eine wichtige Komponente um die Flexibilität bezüglich der Wafergröße und -type entscheidend zu steigern.

EPP 448