Elektrische Charakterisierung zur Qualitätssicherung

Opto-elektronischer Test für VCSEL-Laser auf Wafer-Ebene

Opto-elektronischer Test für VCSEL-Laser auf Wafer-Ebene.
Das optische und elektrische Charakterisieren von VCSELs auf Waferebene dient dazu, die gut arbeitenden Laser von denen minderer Qualität zu unterscheiden. Foto: nanosystec
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Das optische und elektrische Charakterisieren von VCSELs (Obeerflächenemitter) auf Waferebene von nanosystec dient dazu, die gut arbeitenden Laser von denen minderer Qualität zu unterscheiden. Auf diese Weise vermeidet man frühzeitig die Weiterverarbeitung der Ausschuss-Bauteile und identifiziert gleichzeitig mögliche Probleme während der Herstellung der Wafer.

NanoTest-VCSEL bietet eine leistungsfähige Lösung für diese Aufgabenstellung. Eine geschliffene, temperierte Platte nimmt Wafer bis zu einem Durchmesser von 6 Zoll (150 mm) auf. Mehrere Vakuumzonen erlauben zusätzlich die Befestigung kleinerer Wafer, Barren oder einzelner Chips.

Ein ultrapräzises Bewegungssystem (XYZ und Theta) fährt das Bauteil in die Messposition. Kontaktspitzen für Hochfrequenz- oder Gleichstrom liefern die elektrischen Signale. Oberhalb des Bauteils nimmt ein Lichtwellenleiter das optische Signal auf, das gemessen, weiter berechnet und gespeichert wird. Eine leistungsfähige Bildverarbeitung sorgt für das präzise Anfahren der Messposition und die automatische Bauteilerkennung.

Das Softwarepaket TestMaster steuert sowohl das Bewegungssystem und die Bildverarbeitung als auch alle Messinstrumente, wie die Stromquellen, optischen Leistungsmessgeräte, Spektrum- und Netzwerkanalysatoren.

Alle Messdaten werden aufgezeichnet und weiterverarbeitet. Dazu zählen das Berechnen von LVI-Kurven, optische Spektren und Rauschverhältnissen. Eine Farbverteilung der Testergebnisse über die Position auf dem Wafer zeigt die Qualität der einzelnen Bauteile und gleichzeitig des gesamten Wafers auf einen Blick.

www.nanosystec.com

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