Polytec, Spezialist für UV-Quellen und europäischer Xenon-Partner, stellt das gepulste Xenon-System S-2210 des US-Herstellers Xenon Corporation vor. Neben dem Sintern gedruckter Elektronik wurde das System für die Halbleiter-Wafer-Bearbeitung und Aushärte-Anwendungen entwickelt. Es ist ideal für Wirkflächen bis 150 x 150 mm geeignet und bietet eine sehr hohe Leistungsdichte bei einer herausragenden Licht-Uniformität von 3 %. Die maximale Pulsenergie beträgt 18 kJ/cm2, die Pulsdauer kann zwischen 100 und 5000 µs gewählt werden. Die Leuchtmittel sind mit verschiedenen spektralen Eigenschaften erhältlich, wie zum Beispiel ozonfreie und UV-reiche sowie UV-freie Varianten. Das energiereiche, breitbandige Spektrum der Quarzglas-Blitzlampen reicht von 190 bis ca. 1.100 nm Wellenlänge. Bedient wird das System über einen Touchscreen, der die Programmierung einer Sequenz mit bis zu 40 individuellen Einzelpulsen erlaubt. Damit können viele Nano-Tinten und -Pasten auf wärmeempfindlichen Substraten sowie Photovoltaik-Dünnschichten bearbeitet werden. Pulsprofile und einzigartige Pulssequenzen sind speicherbar. Die verschiedenen Typen von Lampengehäusen können mit anderen Xenon-Systemen kombiniert werden. Das Übertragen des fertig entwickelten Prozesses in die Serienproduktion ist somit problemlos möglich. Das S-2210 kann modular erweitert werden, sollten größere Wirkflächen oder höhere Durchsätze erforderlich sein.
