Der Anbieter von Halbleiter-Testgeräten Advantest Corporation hat das Multi Vision Metrology Scanning Electron Microscope Mask MVM-SEM, das E3650, vorgestellt. Auf Grundlage der vom Unternehmen entwickelten Elektronenstrahl-Scantechnologie misst das neue Tool feine Musterabmessungen auf Fotomasken mit hoher Präzision und Stabilität.
Die Lösung ist das neuste Produkt der E3600 Serie. Diese hat bereits große Akzeptanz auf dem SEM-Markt für Fotomasken gefunden. Mit dem E3650 kann der Messdurchsatz im Vergleich zum Vorgängermodell E3640 verdoppelt werden. Der höhere Durchsatz ermöglicht Messungen, die bei komplexerem Patterning und einer erhöhten Anzahl von Masken aufgrund von mehrfachem Patterning erforderlich sind. Neben den hochmodernen Fotomasken verfügt das neue Tool bei der Messung von EUV Masken und Master Templates für Nanoimprint Anwendungen über eine hervorragende Leistung.
