Für die automatisierte Inline-Wafer-Inspektion von großen und flachen Proben hat Steinmeyer Mechatronik ein hochpräzises XYZ-Positioniersystem entwickelt. Das Inspektionssystem wurde für Anwendungen in der hochauflösenden Qualitätskontrolle und Mikroskopie entwickelt und bietet Platz auch für schwere Substrate oder Werkstücke bis 50 kg sowie großflächige Objekte bis 650 x 650 mm. Auch die Z-Achse wurde für Schwergewichte konzipiert und kann Mikroskope, Messköpfe, Sensoren oder Kamerasysteme mit einem Gewicht von bis zu 20 kg tragen.
Die Höhenverstellung über den Verfahrweg von 100 mm erfolgt manuell mit Gleitgewinde oder optional motorisch. Im Falle einer motorischen Vertikalverstellung garantiert ein Kugelgewindetrieb in Kombination mit einer Spindelbremse die notwendige optimale Selbsthaltung, sodass auch bei Aufnahmen mit höchster Auflösung die vertikale Position mit sub-µm-Stabilität gehalten wird.
Gleichzeitige Bewegung von Prüfling und Mikroskop
Das Positioniersystem erlaubt die gleichzeitige Bewegung des Prüflings in X und des Mikroskopsystems in Y für eine resultierende Bewegung in der horizontalen XY-Ebene auf minimalem Bauraum. Das gewährleistet eine kleine Aufstellfläche. Für unterschiedliche Anwendungen steht die Prüflingsauflage in mehreren Ausführungen zur Verfügung: als geschliffene Platte, als Platte mit Bohrraster oder als Chuck. Die Zugänglichkeit ist sowohl von oben als auch von zwei Seiten gegeben, was ein einfaches Beladen und Einreihbarkeit des Inspektionssystems in weitere Prozessschritte bietet.
Präzise Vermessung mit Wiederholgenauigkeiten bis 2 µm
Mit Wiederholgenauigkeiten von 2 µm erfüllt die Positionierlösung höchste Ansprüche an Präzision. Dank der steifigkeitsoptimierten Konstruktion und massiver, schwerer Granitgrundplatte mit Luftdämpfern ist eine hervorragende Entkopplung gegenüber Bodenvibrationen sichergestellt – ideal für Messungen mit µm- und sub-µm-Auflösung auch in der realen Industrieumgebung.
Die Ansteuerung der Bewegungssachsen sowohl im voll integrierten Betrieb in der vorhandenen Mikroskopsoftware als auch eine Einbindung in die prozessseitige Steuerung sind möglich. Das emissionsarme Positioniersystem ist ringsum geschlossen und somit für Einsatz unter Reinraumbedingungen vorbereitet. (ks)
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