AP&S International nutzt die Semicon in Stuttgart, um die vollautomatische Nassprozessanlage CenTurio vorzustellen, die mit dem Trocknungstool CenTurioDry ausgestattet ist. Die Anlage ist für alle gängigen Ätz- und/oder Reinigungsanwendungen für verschiedene Materialien mit einem effizienten Spülprozess und Trocknungstechnologie ausgelegt. Dabei ist sie kompakt und flexibel im Design, und aufgrund des Handlings beim Service anwenderfreundlich und zuverlässig in der Produktion. Die neue Konzeptionierung der 8-Zoll-Anlagen mittels „Half Space“ erlaubt einen Prozess von 100 Wafern pro Carrier. „Mit unserer neuen Produktionsanlage CenTurio revolutionieren wir den Nassprozessanlagen-Markt in Bezug auf Durchsatz, Rentabilität und Betriebskosten. Durch unsere optimierte Prozessgestaltung können pro Charge 100 statt der bekannten 50 Wafer bearbeitet werden. Das erhöht den Durchsatz um bis zu 80 % und somit die gesamte Effizienz der Produktion unserer Kunden. Wir haben mit der Anlage ein hochrentables Tool in der bewährten Qualität unseres Unternehmens entwickelt, das einen extrem schnellen Return-on-Investment garantiert“, so Horst Hall, der CEO. Vorgestellt werden die Nassprozessanlagen GigaStep und MultiStep mit ihrer Plug-and-Run-Technologie.
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