Bei Synatron ist das Anti-Reflective-Coatingsystem ARC-lite von Ultratec erhältlich. Für präparierte Gehäuse und Bausteine auf Wafer-Level ermöglicht das System nach Herstellerangaben einen bis zu 60 % verbesserten Bildkontrast und erhöht die Effizienz der übertragenen Photonen um bis zu 30 %. Nachdem mit Hilfe eines herkömmlichen Selected-Area-Präparationssystems die Rückseite eines Gehäuses gedünnt und poliert wurde, trägt ARC-lite eine Polymerschicht auf dessen Oberfläche auf. Dieser Prozess schafft einen optimalen Probanden für Backside-Emissions-Analysen und andere thermische, spannungs- oder laserbasierte Prüfungen. Das Auftragen der Polymerschicht geschieht bei Umgebungstemperatur und dauert weniger als eine Minute. Wegen seiner kompakten Bauweise lässt sich das Gerät in der Nähe des Mikroskops aufstellen. War bisher ein zeit- und kostenintensives Auslagern zu einem externen Dienstleister notwendig, kann dieser Prozess nun firmenintern durchgeführt werden.
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