Eine Expertengruppe aus dem Institut für Mikrotechnik Mainz (IMM) und der M-O-T Mikro- und Oberflächentechnik entwickelte ein neuartiges Verfahren zur vollständigen Entfernung von SU-8 Fotolack aus mikrostrukturierten Bauteilen. Bisher ließen sich die Eigenschaften und Strukturierungsmöglichkeiten des SU-8 nur eingeschränkt nutzen, da sich prozessierter SU-8 Fotolack, d.h. die Form, nur mit Schwierigkeiten und häufig zum Nachteil des Bauteils wieder aus der galvanisch erzeugten Struktur entfernen ließ. Das Verfahren arbeitet nasschemisch. Galvanische Schichten aus Kupfer, Nickel und Nickellegierungen, insbesondere Nickel-Eisen-Legierungen, lassen sich ohne merklichen Angriff des Ätzmediums vom SU-8 Fotolack befreien. Die Einsatzmöglichkeiten des Verfahrens in Verbindung mit anderen Metallen, wie Gold und Silber, wird derzeit geprüft. Systeme, die auch in eine vorhandene Reinraumumgebung integrierbar sind, können bereits über M-O-T bezogen werden.
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