Als neuen Service offeriert die Reinhardt Microtech die Technologie der kupfergefüllten Durchkontaktierungen in Dünnfilmschaltungen, z.B. in AI2O3, AIN oder Soft-Substraten. Diese Durchkontaktierungstechnologie hat dank Füllung mit reinem Kupfer ohne Glasanteil eine 10fach bessere Wärmeleitfähigkeit als AI2O3 und einen mehr als 100% besseren Wärmetransfer als AIN. Daher ist sie in Leistungsapplikationen von Halbleiterbauelementen als Wärmetransferelement zwischen Halbleiter und Kühlkörper bestens geeignet. Im Hochfrequenz- und Mikrowellenbereich sind die Technologievorteile in der Leitfähigkeit in Bezug auf Widerstand, Kapazität und Induktivität zu finden.
SMT, Stand 1-117
EPP 463
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