Das LWM500 WI von Leica Microsystems Semiconductor ist ein optisches Masken-CD-Metrologiesystem, das die Anforderungen an die CD-Metrologie auf Masken und Reticlen der 65 nm Generation in Forschung, Entwicklung sowie in der Produktion erfüllt. Um die optische Auflösung zu erzielen, wurde die DUV-Beleuchtung bei 248 nm mit der Wasserimmersionstechnologie kombiniert. Das Objektiv ist das Ergebnis einer Weiterentwicklung der DUV AT-Technologie. Ein kleiner Wassertropfen wird zwischen der Maske und dem Objektiv eingebracht und fungiert als Immersionsmedium. Halbleiterhersteller beginnen gerade erst, das Potenzial der Wasserimmersionstechnik zu nutzen. So ist geplant, Chips der 65 nm Generation mit optischer Lithographie und Immersionstechnologie zur Auflösungserhöhung zu produzieren. Leica entwickelt und produziert Mikroskopobjektive für die optische Qualitätskontrolle von Fotomasken in der Halbleiterherstellung, die für den Einsatz von Wasserimmersion optimiert wurden. MueTec, Kooperationspartner von Leica Microsystems, hat das Objektiv in das Metrologiesystem integriert, und sicher gestellt, dass die Auflösung des Objektivs zu einer exzellenten Reproduzierbarkeit der Messungen auf Fotomasken für die Halbleiterindustrie führt.
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