Am 21. März 2002 trafen sich 15 Hersteller von Reinigungsanlagen bei Zestron in Ingolstadt. Kernziel der Tagesveranstaltung war der konstruktive Erfahrungsaustausch zum aktuellen Stand der Reinigungstechnik. Eingeladen wurden insbesondere Unternehmen, die eine Reinigungsanlage im Technischen Zentrum Zestrons ausgestellt haben. Während desTages wurden alle wesentlichen Reinigungsanwendungen, angefangen bei der Baugruppen- über die Fehldruck- und Schablonenreinigung bis hin zur Wartungsreinigung besprochen.
Die vielschichtigen Erfahrungen der Teilnehmer führten zu interessanten Diskussionen mit dem gemeinsamen Ziel, die Zusammenarbeit zwischen Anlagenherstellern und Chemielieferanten weiter zu intensivieren. Gemeinsam wurde ein Überblick über die derzeit vorrangigen Anwenderwünsche erstellt und diskutiert. Neben ausführlichen technischen Vorträgen zu spezifischen Reinigungsanwendungen war es Zestron besonders wichtig, die Teilnehmer mit zusätzlichen Informationen zu den von Anwendern geforderten Reinheitsnormen sowie mit „chemischem“ Wissen zu VOC-Richtlinien, Entsorgungs- und Kreislaufführungs-fragen zu versorgen.
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