Advantest Corporation stellt ein neues SEM-basiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken der nächsten Generation und Patterned Media vor. Das E3630 ist voll kompatibel zum bestehenden CD-SEM-Messsystem E3610/E3620, bietet aber eine um 30 % bessere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite. Da Halbleiterbauteile immer kleiner werden, wird für die Strukturierung von Fotomasken eine noch genauere und stabilere Messtechnik benötigt. Die CD-SEM-Messsysteme der Serie sind bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomasken-Herstellern im Einsatz. Das System zeichnet sich durch ein neu entwickeltes Objektiv und eine extrem vibrationsarme Plattform aus. Durch die Leistungsfähigkeit ist es ideal für CD-Messungen (Critical Dimension) der sehr kleinen Strukturen auf den Fotomasken speziell im Bereich der EUV- (extremes Ultraviolett) und Nanoimprint-Lithographie geeignet. Das Tool ist damit optimal für die Fotomaskenentwicklung und für Fertigungsuntersuchungen bei 22 nm und 16 nm Produktionsprozessen geeignet. Das Messsystem ist kompatibel zu den bestehenden CD-SEM-Systemen des Unternehmens, so dass die Anwender vorhandene Software weiter nutzen können.
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