An die Anforderungen der Waferinspektion hat Leica Microsystems die Digital-Mikroskopserie für industrielle Applikationen um zwei Stative mit 6×6“-Tischen aufgestockt. Die speziell für Auflichtanwendungen optimierten Mikroskope sind intuitiv zu handhaben, abgestimmt auf die Körperkonstitution der Benutzer. So ist das semiautomatische Leica DM4000 M mit manuellem Tisch für die spezifischen Anforderungen der manuellen Inspektion und hat eine minimale Stativgröße, während das DM6000 M mit motorisiertem Tisch und einer optionalen 6“-Waferladestation die Lösung für die vollautomatische Defekterkennung darstellt. Beide Systeme sind robust und solide gebaut und speziell für den industriellen Einsatz konzipiert. Die automatische Intensitätsanpassung an den Lichtbedarf der Objektive erlaubt schnelles Umschalten zwischen Objektivvergrößerungen ohne den anderenfalls notwendigen Intensitätsausgleich.
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