In Zusammenarbeit mit mehreren Druckerherstellern hat Dr.O.K.Wack das Reinigungsmedium Zestron-SW speziell für die Unterseiten-Reinigung von Schablonen ohne Vakuumabsaugung entwickelt. Nach Herstellerangaben verfügt es mit 67 °C über einen deutlich höheren Flammpunkt gegenüber Isopropyl-Alkohol (12 °C) und einen angenehmen Geruch. Außerdem gibt das Unternehmen gute Trocknungseigenschaften und eine im Vergleich zu herkömmlichen Reinigern verbesserte Reinigungskraft an, die somit die Prozesszeiten verkürzen. Dies erlaube eine Reproduzierbarkeit im Druckprozess und eine Reduzierung fehlbedruckter Leiterplatten.
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