Atotech hat das LTC-Verfahren zur Leiterbilderzeugung auf Basis von Laserstrahlung entwickelt. Das Verfahren beruht auf Maskenprojektion und ermöglicht Leiterplattenstrukturen 25 µm. Die Strukturierung der Leiterplatten beginnt mit dem gezielten Laserabtrag einer dünnen, ätzresistenten Schicht, die zuvor in einem chemischen Tauchbad gebildet wird. Anschließend wird das Leiterbild in einem alkalischen Ätzvorgang erzeugt und der nicht mehr benötigte Ätzresist in verdünnter Säurelösung entfernt. Im Gegensatz zu den bestehenden Techniken gibt es bei dem LDC-Verfahren keine Einschränkungen durch Pixelauflösung oder durch einen Entwicklungsprozess. Auf Basis dieser Technik wird Atotech integrierte Lösungen für die Produktion von IC-Substratflächen und von Leiterplatten hoher Dichte entwickeln.
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